PVD即物理气相沉积：指在真空条件下采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术， 物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。
微弧氧化（ MAO）也被称为等离子体电解氧化（ PEO），是从阳极氧化技术的基础上发展而来的，形成的涂层优于阳极氧化 。微弧氧化工艺主要是依靠电解液与电参数的匹配调节，在弧光放电产生的瞬时高温高压作用下，于铝、镁、钛等阀金属及其合金表面生长出以基体金属氧化物为主并辅以电解液组分的改性陶瓷涂层，其防腐及耐磨性能显著优于传统阳极氧化涂层，因此在海洋舰船与航空构件上的应用受到广泛关注。
镀膜原理：在真空条件下，采用物理方法，将材料源表面气化成气体原子或部分电离成离子，并通过等离子体过程，在基体表面沉积出具有特殊功能的薄膜。
环境适应性：膜厚（不影响装配、<μm级可控>)、粘附性（防指纹油脂、药渣清理）、耐磨耐蚀（膜层致密、硬度定制）、隐蔽性（亚光<粗糙度>、颜色<可选>）、结合力（多层过渡、应力缓解）、耐高温（火焰冲刷、结合力维持）
应用领域：航空航天、核电、汽车、医疗器械、太阳能、风电等高端制造领域。
多种材料种类：钛及钛合金、不锈钢、铜、锌铝合金等。
典型案例分析：
| PVD | 微弧氧化 |
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